赤外線加熱単結晶育成装置

SC1, SC2

Model No.

SC1
MDH11020	MDH20020

温度域

Max. 2050°C 1.5kW × 2pcs (Standard)

Max. 2150°C 3.5kW × 2pcs (Standard)

反射鏡

タイプ	双楕円反射鏡
サイズ	Standard (Medium)

結晶育成（例）

φ6 (Al2O3 + Cr2O3)

φ8 (MgAl2O4 + CoO)

主軸駆動

下軸ストローク	150mm
上軸ストローク	250mm
結晶育成速度（低速）	0.5～50mm/hr
ギャップ調整（中速）	1～300mm/min
備動作（高速）	300mm/min
主軸回転数	5～60r/min (50Hz)

ランプ出力

電源出力	DC110V, 20A × 2台	DC200V, 20A × 2台
電源出力安定度	0.005% of span + 3mV
出力安定度	±0.1% of span

雰囲気

圧力	Max. 300kPa （オプション 970kPa）
流量	0.5～5 L/min N2 Gas (Flow meter included)

寸法 (mm)

本体	1,140W×1,170D×2,250H
パソコンラック	600W×625D×1,200H
DC電源	本体に組込み
制御ＢＯＸ	本体に組込み

天井高さ (mm)

約 2,700mm

用力

電力（50/60Hz)	φ3 AC200V 60A	φ3 AC200V 75A
冷却水	約 5～8L/min

Model No.

SC2
EDH11020	MDH11020	MDH20020

温度域

Max. 2050°C 1.5kW × 2pcs (Standard)

Max. 2150°C 3.5kW × 2pcs (Standard)

反射鏡

タイプ	双楕円反射鏡
サイズ	Small (E)	Standard (Medium)

結晶育成（例）

φ6 (Al2O3 + Cr2O3)

φ8 (MgAl2O4 + CoO)

主軸駆動

下軸ストローク	150mm
上軸ストローク	±25mm
結晶育成速度（低速）	1.0～20mm/hr
ギャップ調整（中速）	Low speed : 0.15～2.9mm/hr, High speed : 22mm/min
備動作（高速）	100mm/min (50Hz)
主軸回転数	5～60r/min (50Hz)

ランプ出力

電源出力	DC110V, 20A × 2台	DC200V, 20A × 2台
電源出力安定度	0.005% of span + 3mV
出力安定度	±0.1% of span

雰囲気

圧力	Max. 300kPa （オプション 970kPa）
流量	0.5～5L/min N2 Gas (Flow meter included)

寸法 (mm)

本体	1,000W×1,000D×1,800H
パソコンラック	600W×625D×1,200H
DC電源	630W×510D×700H× 1台	430W×500D×610H× 2台
制御ＢＯＸ	本体に組込み

天井高さ (mm)

約 2,400mm

用力

電力（50/60Hz)	φ3 AC200V 60A	φ3 AC200V 75A
冷却水	約 5～8L/min

オプション

名称

概要

ラバープレスユニット

原料棒の成型に最適な油圧式プレスと成型型です。

マスフローコントローラー

マスフローコントローラーは、単結晶育成の際、2種類のガスを混合することができます。

コールドトラップ

本ユニットを使用することで蒸発物をトラップし、 石英管の失透を軽減できますので、加熱性能を失わずに単結晶育成をすることができます。
溶融原料の蒸発が顕著な場合は、本ユニットの使用が極めて効果的です。

[効果]
このユニット使用以前は、蒸発物の石英管への付着に伴いランプパワーを常時調整することが必要で、そのことは結晶育成に好ましいことではありませんでした。本ユニットを使用することでランプパワーを頻繁に調整することなく結晶育成が安定して行えるように改善されます。

石英管の使用頻度を延ばし消耗品費用を抑えることができます。
Sr₂RuO₄単結晶の育成の実例：
コールドトラップ使用前（石英管耐用回数4-5回）、
コールドトラップ使用後（石英管耐用回数10回以上）
Sr₃Ru₂O₇単結晶の育成の実例：
コールドトラップ使用前（石英管耐用回数2-3回）、
コールドトラップ使用後（石英管耐用回数8-9回